両陛下、日本国際賞授賞式に御出席
天皇、皇后両陛下は日本国際賞の授賞式で、末松安晴東京工業大元学長（左端）に拍手を送られた＝２３日午後、東京都千代田区の国立劇場
天皇、皇后両陛下は２３日午後、東京都千代田区の国立劇場で開かれた第３０回日本国際賞授賞式に出席された。
同賞は科学技術分野で優れた業績を上げた研究者に贈られる。今年は大容量・長距離の光ファイバー通信に不可欠な半導体レーザーを開発した東京工業大元学長の末松安晴氏（８１）と、遺伝子の働きを制御する仕組みを発見した米ロックフェラー大教授のデビッド・アリス氏（６３）が受賞した。
両陛下は授賞式後、都内のホテルで開かれた祝宴にも出席された。
